真空鍍膜機真空計知識

時間：2020-01-05

作者：東莞愛加真空科技有限公司

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詞條說明
如何選擇真空鍍膜機
1. 首先 要根據自己的產品定位來確定鍍膜機制造商的等級如果你的產品定位在中**市場那么你必須選擇中**的設備如果你的產品定位在中低端那么可能一臺中端的設備就可以滿足你的要求當然如果你有充足的資金購買一臺中**的性能較加豐富質量較加穩定的設備是較好不過的了。 2. 中**的設備特點 設備穩定性一定要好選用的配件一定要可靠鍍膜機本身是一個復雜的系統，包括真空自動化機械等多個系統任何一個部件的不
真空鍍膜機真空計知識
真空計：真空計是真空鍍膜設備上的重要組成部分，它是檢測鍍膜機真空度的重要手段。真空計根據其工作原理可以分為**真空計和相對真空計，**真空計可以直接測量壓強的高低，相對真空計只能間接測量真空度。本文重點介紹鍍膜機器上面常用到的以下幾個真空計：點阻真空計(又叫皮喇尼真空計)：它主要由電熱絲、外殼和支架構成，主要是根據在低壓下，氣體的熱傳導系數與壓強成正比的方式工作的。上面開口處與被測真空系
電子束蒸發和磁控濺射鍍膜區別？
1.兩種鍍膜原理不同：電子束蒸發鍍膜：利用高能電子束轟擊靶材，使材料表面產生很高的溫度，由固態直接升華到氣態，沉積到工件表面所形成的薄膜，主要運用在光學方面(如：眼鏡片的增透膜，CCD鏡頭，光通訊方面等等) 磁控濺射鍍膜：高能離子轟擊靶材，使靶材表面原子飛逸出來的過程稱濺射，那么采用磁場控制后，濺射出來的原子或二次電子以輪擺線的形式被束縛在靶材表面，使得輝光維持而進行濺射，主要運用在裝飾方面(
氮化鈦(TiN)涂層技術分析
氮化鈦涂層是自PVD技術發明以來，較常見的一種涂層，具有較高的性價比，也是之前運用的較廣泛的一種PVD涂層,它具有較高的薄膜硬度。用磁控濺射方法沉積的氮化鈦沉積速度慢，表面顆粒小所以表面光滑，而且液滴等表面缺限少,但是表面硬度較低。用磁控陰極弧的方法沉積的氮化鈦，沉積速度快，但表面顆粒大，所以表面光潔度較差，液滴等表面缺陷也較多，但是可以獲得較高的表面硬度。