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除磷劑?WB950??化學鍍是一種不需要通電,依據氧化還原反應機理,利用強還原劑在含有金屬離子?的溶液中,將金屬離子還原成金屬而沉積在各種材料表面形成致密鍍層的方法。目前主?要還原劑使用的大多為次磷酸鹽,普通的石灰沉淀等方法無法完全去除廢水中的次磷亞?磷酸鹽,總磷**標已成為化鍍行業主要的污染指標之一。除磷劑WB950僅在電鍍廢水,在其他類
隨著新版GMP的實施和制藥工業的飛速發展以及與**制藥行業的逐步接軌,制藥工業所使用氮氣的范圍越拓越廣,對氮氣的質量要求也越來越高。氮氣作為一種保護性氣源,已不是簡單意義上的普通氣源。它是較為重要的,對藥品質量的影響不可忽視。現代制藥工業生產中,合成藥中用氮氣保護、生物工程中用純氮隔離、制劑(特別是無菌制劑)生產中充氮灌封等對氮氣的要求是:①氮氣純度≥99.999%,即標準中的無氧要求;②氮氣不含
1.瓶裝氮氣鋼瓶容積為40L,額定充壓15MPa,足額貯氣6m3。根據用戶需求不同,瓶裝氮氣的純度有99.5%,99.999%和99.999%之分。由于各地的供求情況不同,瓶裝高純氮氣的價格有很大差異,從18~90元/瓶不等,即氮氣價為3~15元/m3。?2.液氮液氮是深冷空分制氮的產物,在標準狀態下,1m3液氮可氣化為643m3的氮氣,但使用時的實際利用率一般在95%上下,即1m3液氮
制氧機工作流程主要由制冷系統和精餾系統所組成。詳細可分為**系統,即空氣壓縮系統、 空氣凈化系統、換熱系統、制冷系統、精餾系統、安全防爆系統、氧氣壓縮輸送系統,加 溫解凍系統,儀表自控系統以及電控系統。?空分裝置的流程組織需要根據設計任務書的要求,既要保證產品的質童和數量,又要 低電耗、省投資,還要保證安全運轉及便于維修。??制氧機的分類很多,按產品的狀態分為產氣氧、
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