美國(guó) KRi 考夫曼離子源 KDC 40 熱蒸鍍機(jī)應(yīng)用

時(shí)間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：54

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• KRi 考夫曼離子源表面預(yù)清潔 Pre-clean 應(yīng)用

  上海伯東代理美國(guó)?KRi 考夫曼離子源適用于安裝在 MBE 分子束外延, 濺射和蒸發(fā)系統(tǒng), PLD 脈沖激光系統(tǒng)等, 在沉積前用離子轟擊表面, 進(jìn)行預(yù)清潔 Pre-clean 的工藝, 對(duì)基材表面物清洗, 金屬氧化物的去除等, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應(yīng)力, 工藝效率等！KRi 離子源預(yù)清潔可以實(shí)現(xiàn)去除物理吸附污染: 去除表面污染, 如水, 吸附氣體, 碳?xì)浠衔餁埩羧コ瘜W(xué)吸附污

• KRI 射頻離子源輔助沉積鍍制385nm紫外帶通濾光片

  ?帶通濾光片也叫干涉濾光片,?主要起到過(guò)濾不想要的雜光,?只讓想要的光通過(guò)的作用. 385nm?紫外帶通濾光片是帶通濾光片中一款?UV?紫外波段的濾光片,?廣泛應(yīng)用于熒光檢測(cè),?多波段濾光片.?它具有高透過(guò)率,?其深截止可保探測(cè)器接收不到其它波長(zhǎng)的光,?因此可保證圖像的高亮度和大的信噪比.

• 上海伯東 HVA 真空插板閥應(yīng)用于半導(dǎo)體管道中

  因產(chǎn)品配置不同，價(jià)格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。美國(guó) HVA?真空插板閥在半導(dǎo)體管道中的應(yīng)用半導(dǎo)體后端工藝制程中需要使用到例如 Ar, O2 或是其他特殊氣體, 氣體管路系統(tǒng) ( 真空管路 ) 的作用是把各種氣體在滿足工藝制程要求的純度, 壓力和流量的前提下安全穩(wěn)定的供應(yīng)到工藝設(shè)備內(nèi). 上海伯東美國(guó) HVA?插板閥廣泛用于高真空或**高真空的氣體輸送環(huán)節(jié),

• 分子泵組與紅外光譜儀聯(lián)用

  分子泵組與紅外光譜儀聯(lián)用進(jìn)行工業(yè)催化材料分析上海伯東德國(guó) Pfeiffer 經(jīng)濟(jì)型分子泵組?Hicube 80 Eco 可搭配紅外光譜儀共同使用, 進(jìn)行工業(yè)催化的材料分析. 上海伯東客戶某大學(xué)實(shí)驗(yàn)室, 采用浸漬法進(jìn)行試驗(yàn), 為了提高浸漬量, 需要保證在真空環(huán)境下進(jìn)行, Pfeiffer?分子泵組?Hicube 80 Eco 是前級(jí)泵和分子泵的結(jié)合, 體積小巧, 即插即