創(chuàng)芯未來鵬城半導體亮相*二屆碳基半導體材料與器件產(chǎn)業(yè)發(fā)展論壇

時間：2022-07-22

作者：鵬城半導體技術（深圳）有限公司

詞條
詞條說明
重磅-鵬城半導體子公司鵬城微納獲3項計算機軟件著作權登記證書！
近日，經(jīng)*人民共和國國家**審核，根據(jù)《zhrnghg計算機軟件保護條例》和《計算機軟件著作權登記辦法》的規(guī)定，“鵬城半導體技術（深圳）有限公司-全資子公司鵬城微納技術（沈陽）有限公司”獲3項《zhrnghg國家**計算機軟件著作權登記證書》，分別是：《多功能磁控濺射系統(tǒng)軟件V1.0》、《高真空熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)軟件V1.0》、《立式多功能熱絲CVD沉積系統(tǒng)軟件V1.0》。從頒證之日起，該3
為您提供高性價比真空鍍膜設備解決方案《520愛情風暴來襲》
真空鍍膜設備的薄膜制作過程，簡單來說就是將一種材料(薄膜材料）轉移到另一種材料(基底)的表面，形成和基底牢固結合的薄膜的過程。所以，任何的真空鍍膜薄膜制作方法都包括:源蒸發(fā)、遷移和凝聚三個重要環(huán)節(jié)。多功能磁控濺射儀一、鍍膜蒸發(fā)源“源"的作用是提供鍍膜的材料（或被鍍材料中的某種組分)。通過物理或化學的方法使鍍膜材料成為氣態(tài)物質(zhì)。熱絲CVD金剛石設備二、遷移過程遷移過程都是在氣相中進行的，在氣態(tài)物質(zhì)遷
「喜訊」熱烈祝賀鵬城半導體榮獲4項軟件著作權專利證書
近日，鵬城半導體技術（深圳）有限公司（簡稱：鵬城半導體）申請的《PVD薄膜沉積系統(tǒng)軟件》、《高真空濺射系統(tǒng)軟件》、《電子束蒸鍍薄膜沉積系統(tǒng)軟件》、《微米晶、納米晶金剛石薄膜CVD沉積系統(tǒng)軟件》4項軟件著作權**通過審批，經(jīng)*人民共和國國家**考證，根據(jù)《*人民共和國計算機軟件保護條例》和《計算機軟件著作權登記辦法》的規(guī)定，鵬城半導體技術（深圳）有限公司被認定這4項軟件的法定著作權人，從頒證
新一代半導體技術-真空鍍膜技術的現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢
摘要：隨著可持續(xù)發(fā)展觀的深入普及和社會經(jīng)濟的快速發(fā)展，經(jīng)濟與環(huán)保協(xié)同發(fā)展成為當下企業(yè)發(fā)展和科技創(chuàng)新的主要趨勢。傳統(tǒng)的通電鍍膜技術會產(chǎn)生較大的污染，且鍍膜質(zhì)量不高，經(jīng)濟效益低下，已逐漸退出歷史舞臺，取而代之的是技術較加**、鍍膜質(zhì)量較加優(yōu)秀的真空鍍膜技術。真空鍍膜技術始于20世紀30年代，當前真空鍍膜技術已從實驗室走向了工廠，實現(xiàn)了大規(guī)模生產(chǎn)，在光伏、建筑、裝飾、通訊、照明等工業(yè)領域得到了廣泛的應用