新品發(fā)布-ELIONIX納米壓痕儀

時間：2023-07-05作者：北京歐屹科技有限公司瀏覽：76

北京歐屹科技有限公司專注于應(yīng)力雙折射儀,內(nèi)應(yīng)力測量儀,無掩膜光刻機(jī)等

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  詞條說明

• PHL應(yīng)力雙折射儀PA-300-MT

  PA-300-MT 簡介： PA系列是日本Photonic lattice公司傾力打造的雙折射/應(yīng)力測量儀，PA系列測量雙折射測量范圍達(dá)0-130nm，可以測量的樣品范圍從幾個毫米到近500毫米。PA系列雙折射測量儀以其**技術(shù)的光子晶體偏光陣列片，*有的雙折射算法設(shè)計(jì)制造，得到每片樣品僅需幾秒鐘的測量能力，使其成為業(yè)內(nèi)，特別是工業(yè)界雙折射測量/應(yīng)力測量的**選擇。 PA-300-MT主要特點(diǎn)：

• 新品發(fā)布-ELIONIX納米壓痕儀

  可以獲得薄膜、極性表面和微小區(qū)域的硬度和彈性模量等機(jī)械性能。?由于分析載荷和位移曲線以確定特性，因此*觀察壓痕。符合ISO 14577-1/JIS Z 2255標(biāo)準(zhǔn)外部及內(nèi)部溫度控制防震機(jī)構(gòu)壓頭校正、溫度校正日常檢測提醒數(shù)據(jù)再現(xiàn)性 ?該機(jī)制可抑制振動和溫度變化等外部干擾的影響，提高數(shù)據(jù)的再現(xiàn)性 ?即使在連續(xù)測量中也能實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的高負(fù)荷單元和低負(fù)載單元的更換方便 ?通過更換設(shè)備進(jìn)行設(shè)備校準(zhǔn)

• 新品發(fā)布-VR鏡頭專用應(yīng)力雙折射測量設(shè)備

  PHL公司較新推出一款**于VR鏡片的的評估設(shè)備WPA-VR ，適應(yīng)于研發(fā)和在線式檢測。1， 斯托克斯參數(shù)S3的面分布測量。Pancake鏡片薄型化的技術(shù)，在于鏡頭內(nèi)含有控制整體偏光的偏光片與QWP(1/4玻片)結(jié)構(gòu)。藉由表示綜合偏光控制性能的斯托克斯參數(shù)S3的整面分布信息可以評估模材貼合時的皺褶、氣泡等缺陷狀況2， RGB三原色測量，利用三原色量測，可了解各色狀態(tài)下QWP的相位差及S;差異狀況三

• PHL應(yīng)力雙折射測量儀WPA-200-MT

  WPA-200-XL簡介： WPA-200-XL系列是Photonic lattic公司以其良好世界的光子晶體制造技術(shù)開發(fā)的產(chǎn)品，*特的測量技術(shù)，高速而又精確的測量能力使其成為**的光學(xué)測量產(chǎn)品。 該產(chǎn)品在測量過程中可以對視野范圍內(nèi)樣品一次測量，全面掌握應(yīng)力分布。可測數(shù)千nm高相位差分布的萬用機(jī)器，較適合用來測量光學(xué)薄膜或透明樹脂,量化測量結(jié)果，二維圖表可以較直觀的讀取數(shù)據(jù)。 WPA-200