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詞條說明
1、樣品臺旋轉,多樣品同時鍍膜時,鍍膜厚度比較均勻。2、預濺射擋板功能,剛開始鍍膜的時候腔室里會有些雜質,擋板可以保護樣品,提高薄膜質量3、帶有水冷系統,可以長時間濺射鍍膜,厚度可達1微米以上。4、直流磁控濺射,提高附著力,濺射速率快,比離子濺射快上一個量級。針對某些金屬較快能達到1-2納米每秒,5、不但可以電鏡制樣,還可以制作金屬電極。6、可擴展膜厚監測,監測薄膜厚度。濺射儀使用需注1 靶材需要
Q1: 什么是PVD? 真空電鍍加工真空鍍膜技術A1: PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫,中文意思是“物相沉積”,是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。?? ? 鄭州科探儀器設備有限公司新研發一款小型蒸鍍儀KT-Z1650DM是一款小型臺式加熱功率可控蒸發鍍膜儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,
?針對光學和介電功能薄膜制備中的離化率低和靶面污染問題,設計了一種磁控濺射沉積系統,系統包括磁控濺射靶裝置、等離子體源和陽極清洗裝置。主要結論有:(1)在磁控濺射靶裝置設計中,采用磁流體密封替代橡膠軸承密封,提高了靶裝置的密封性,極限真空度可達10-6 Pa;采用旋轉磁鋼代替固定磁鋼,使靶材的利用率從30%提高到60%,同時避免了靶裝置在預先清洗時的污染;設計了靶裝置的驅動端,完成了電機
這個帶有濕度控制的氣體濃度發生器具有一系列強大的功能和性能參數,特別適合需要在高濕度和寬范圍氣體濃度中準確控制和檢測的應用。以下是一些關鍵的性能參數和特性:- AI智能控制算法:采用**的AI智能控制算法,能夠在大范圍的氣體濃度比例下準確穩定地控制氣體濕度。- 寬廣的濃度稀釋范圍:該設備的濃度稀釋范圍為1-5000倍,適應各種應用環境。- 高精度流量檢測:流量檢測精度可達到±1% F.S,流量線性
公司名: 鄭州科探儀器設備有限公司
聯系人: 裴先生
電 話:
手 機: 15136134901
微 信: 15136134901
地 址: 河南鄭州中原區鄭州**產業開發區西三環路289號6幢11單元3層73號
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網 址: zzketan.b2b168.com
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