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等離子體刻蝕機是利用高頻輝光放電反應,將反應氣體為原子或游離基等具有活性的粒子,這些活性粒子擴散到需要腐蝕的位置,然后與被刻蝕的物質發生反應,形成揮發性反應物,這種腐蝕方法也稱為干腐蝕。等離子化洗蝕刻技術是電漿特殊特性的應用。等離子體清洗蝕刻技術的形成設備,是在密閉器皿內用進口真空泵達到相應的真空度,隨著氣體的稀薄,分子間隔及分子與離子之間的自由運動距離變長,在電場的作用下碰撞形成等離子體,這些離
?等離子處理機誘導產生的活性種(例如自由基等),提供了表面二(乙二醇)甲醚分子碎片再次相結合做好反應的機制。自由基落入成的分子網絡中,可觸發劇烈的電子激發原位氧化反應。?對等離子處理機處理后的鋁片分子層構造做ATR-FTIR剖析,在1583.07cm處有個較強的吸收峰,這也是PEG構造中C-O鍵的特征吸收峰,表明沉積的表面層是類PEG構造。1780.21cm處的吸收峰,說明有C
SiC該材料是三代半導體材質,具有高臨界擊穿電場、高導熱性、高載流子飽和漂移速度等特點。它是**半導體功率器件的*方向,在高壓、高溫、高頻、抗輻射半導體器件低損耗的優良性能,是**半導體功率器件的*。? ? ? ??但經傳統濕法處理后的SiC表面存在著殘留有C雜質和表面容易被氧化等缺點,使得在SiC上不容易形成優良的歐姆接觸和低界面態的MOS結
電漿清洗機是1種嶄新的科技創新,使用等離子體高過日常潔凈方式難以高過的功效。等離子體是物質的狀態,也稱為物質的*四狀態。在氣體中施加足夠的能量使其分離成等離子。等離子體的“活性”組分包含:離子、電子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。電漿清洗機使用這種活性成份的類型處理試樣表層,高過清潔等作用。常壓電漿清洗機可選用多種型號的噴嘴,用于不同場合,以滿足各種不同的產品和處理環境;小型化的設備體
公司名: 深圳子柒科技有限公司
聯系人: 熊生
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