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鎳鉑合金靶材:精密鍍膜的關鍵材料 在真空鍍膜領域,鎳鉑合金靶材憑借其獨特的物理化學特性,成為制備高端功能薄膜的核心材料。這種由鎳和鉑按特定比例熔煉而成的合金,通過磁控濺射工藝能在基材表面形成致密均勻的薄膜,在半導體、光學器件等領域展現出不可替代的價值。 鎳鉑合金靶材的制備需要精確控制鉑含量在5-20%之間,采用真空感應熔煉結合精密軋制技術。這種配比使材料兼具鎳的延展性和鉑的化學穩定性,晶粒尺寸可
鉬鈦合金靶材:高科技領域的"隱形冠軍"鉬鈦合金靶材在真空鍍膜領域扮演著關鍵角色。這種特殊材料由鉬和鈦按特定比例熔煉而成,通過粉末冶金或電弧熔煉工藝制備,具有高熔點、優異耐腐蝕性和良好導電性等突出特性。在磁控濺射工藝中,鉬鈦合金靶材能夠穩定釋放金屬原子,形成均勻致密的薄膜鍍層。薄膜沉積過程中,鉬鈦合金靶材展現出獨特優勢。其高密度結構確保濺射時不會產生顆粒飛濺,保證鍍膜表面光潔度;適當的硬度使靶材在
碳化硅靶材:半導體行業的新寵 碳化硅靶材在半導體制造中扮演著重要角色,其獨特的性能使其成為高端芯片和功率器件的關鍵材料。相比傳統硅基材料,碳化硅具有更高的熱導率、更強的耐高溫能力以及更優異的化學穩定性,因此在高溫、高頻、高功率電子設備中表現突出。 碳化硅靶材的制備工藝復雜,通常采用化學氣相沉積(CVD)或物理氣相沉積(PVD)技術,以確保高純度和均勻性。其中,CVD法制備的碳化硅靶材純度高、結晶性
中山鎳釩合金靶鎳釩合金靶是一種在薄膜制備領域廣泛應用的濺射靶材,具有高純度、高硬度和良好的耐腐蝕性能等特點。作為一種性能優異、價格相對較低的合金靶材,鎳釩合金靶在集成電路制作、磁、光伏太陽能、觸控顯示、半導體等領域的器件鍍膜中發揮著關鍵作用。公司簡介中山鎳釩合金靶是一家生產高屬材料、蒸發鍍膜材料以及濺射靶材的科技型民營股份制工貿有限公司。公司擁有多名中**技術人員和化應用實驗室,具備強大的蒸發材料
公司名: 東莞市鼎偉新材料有限公司
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