HVA 真空閥門 11000 用在 OLED 鍍膜機

時間：2023-05-19

作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司

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氦質譜檢漏儀 CVD 設備檢漏,滿足第三代半導體芯片量產(chǎn)
氦質譜檢漏儀?CVD 設備檢漏, 滿足*三代半導體芯片量產(chǎn)上海伯東某客戶是一家以**化合物半導體光電器件相關產(chǎn)品衍生智造為主業(yè)的創(chuàng)新型科技公司, **產(chǎn)品是物聯(lián)網(wǎng), 5G 通訊, 安防監(jiān)控等*三代半導體芯片. 芯片在生產(chǎn)過程中使用 CVD 設備做鍍膜處理, 在鍍膜過程中需要保持設備處于高真空狀態(tài), 這就要求腔體的泄漏率不能過 1E-10 mbrl l/s.CVD?設備檢漏要
上海伯東KRI 離子源在鍺基紅外鍍膜中的應用
? ? 紅外光學薄膜器件作為紅外系統(tǒng)重要組成部分,?已廣泛應用于航空航天、、環(huán)保、分析儀器等各個領域.?在紅外光學應用中,?由于鍺在2～14μm紅外波段內有高而均勻的透過率,?是一種的優(yōu)良紅外光學材料.?鍺單晶切片加工成的鍺透鏡及鍺窗和利用鍺單晶透過紅外波長特性制成的各種紅外光學部件廣泛用于各類紅外光學系統(tǒng).?&nbs
美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40 熱蒸鍍機應用
上海伯東某客戶在熱蒸發(fā)鍍膜機中配置美國?KRi 考夫曼離子源?KDC 40, 進行鍍膜前基片預清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD 工藝, 通過同時的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應力, 工藝效率等.離子源鍍膜前基片預清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD考夫曼離子源 KDC 40 到基片距離控制在 3
振動樣品磁強計 VSM 磁滯回線測試應用|上海伯東代理英國進口Nano
振動樣品磁強計 VSM 磁滯回線測試應用上海伯東代理英國 NanoMagnetics 儀器振動樣品磁強計 VSM 主要用于測量塊狀, 粉末, 薄片, 單晶和液體各種材料的測量. 振動樣品磁強計 VSM 可完成磁滯回線, 起始磁化曲線, 退磁曲線及溫度特性曲線, IRM 和 DCD 等曲線的測量. 搭配不同的高低溫選件可進行磁化數(shù)據(jù)的溫度函數(shù)的測量, 測定居里溫度點等. 上海伯東代理英國 Nano