太陽能擴散爐

時間：2014-10-22作者：青島福潤德微電子設備有限公司瀏覽：77

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  詞條說明

• LPCVD設備

  LPCVD設備維修及應用 低壓化學氣相淀積設備使用與維護技術 LPCVD是大規模集成電路(LSI)和**大規模集成電路(VLSI)以及半導體光電器件工藝領域里的主要工藝之一。 PCVD技術可以提高淀積薄膜的質量，使膜層具有均勻性好、缺陷密度低、臺階覆蓋性好等優點，成為制備Si 3N4薄膜的主要方法。熱壁LPCVD設備使用過程中出現薄膜的淀積速率、薄膜的均勻性、片內均勻性、片間均勻性不理想等問題，提

• 等離子增強化學氣相淀積系統(PECVD)

  ? 等離子增強化學氣相淀積系統(PECVD) PECVD（等離子增強化學氣相淀積）設備是一種用于在基片上生成高質量SiNx和SiO2薄膜的**設備。淀積溫度范圍寬( 100～600oC可調)，特別適用于半導體器件和集成電路的鈍化，用以提高器件和集成電路可靠性。目前，它已成為微電子和光電子領域科研和生產不可缺少的設備。 產品特點： 1、膜質量高。它不同于通常使用的翻蓋式單室機（易漏大氣而

• 石英領

  ?石英軟領為進口石英纖維棉采用德國加工工藝制成，用于擴散爐和PECVD設備中爐體和石英管之間的隔熱保溫，解決了以往用保溫棉存在的兩大問題：一是保溫棉長時間在高溫下出現粉化脫落從而影響工作腔體潔凈度，二是手動堵塞保溫棉不均勻，影響工作區溫度穩定性和均勻性。本產品可長期使用在高溫下，不粉化，不變形，不硬化，不氧化，防震，防腐蝕。

• （單管程序氧化爐）

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