KRI 離子源用于UVC人機共存紫外濾光片鍍膜

時間：2024-01-10作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：40

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• 詞條

  詞條說明

• 上海伯東美國 HVA 真空插板閥在半導體管道中的應用

  半導體后端工藝制程中需要使用到例如 Ar, O2 或是其他特殊氣體,氣體管路系統(tǒng)(真空管路)的作用是把各種氣體在滿足工藝制程要求的純度, 壓力和流量的前提下穩(wěn)定的供應到工藝設備內. 上海伯東美國 HVA?插板閥廣泛用于高真空或高真空的氣體輸送環(huán)節(jié),?用來改變氣流方向,?調節(jié)氣流量大小,?切斷或接通管路,?起到真空隔離密封等作用. 美國 HVA&nb

• HVA 真空閥門用在氣體管路系統(tǒng)

  某半導體工廠在生產線上氣體輸送環(huán)節(jié)的氣體管路系統(tǒng)采用伯東?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?，作為真空隔離密封.??HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標準技術規(guī)格:??閥門材質:?-?閥門主體?304?不銹鋼?-?焊接波紋

• 美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40 熱蒸鍍機應用

  上海伯東某客戶在熱蒸發(fā)鍍膜機中配置美國?KRi 考夫曼離子源?KDC 40, 進行鍍膜前基片預清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD 工藝, 通過同時的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應力, 工藝效率等.離子源鍍膜前基片預清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD考夫曼離子源 KDC 40 到基片距離控制在 3

• HVA 高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機

  因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。HVA?高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機OLED 鍍膜機主要面向半導體照明客戶, 需要鍍膜機性能穩(wěn)定, 器件效率高, *,HVA?高真空閘閥應用一般科研用鍍膜機的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求達到 5*10-7mbar 或 5*10-8mbar, 這時需要配置分子泵系統(tǒng)或低溫泵